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Intel:5nm工藝進展良好,我們將繼續保持制程優勢

2019-10-28 11:26來源:快科技
導讀:在7nm之后,Intel將會進入5nm節點,司睿博表示Intel的5nm工藝進度良好,但同樣沒有提及具體信息,這是Intel首次在官方場合提及5nm工藝。

上周五,Intel發表了Q3季度財報,營收持平但盈利下滑了6%。對Intel來說,最大的挑戰還是他們的芯片工藝,在這次財報會議,Intel CEO司睿博也談到了工藝進展,10nm工藝開始量產,并首次談到5nm工藝進展良好。

對于10nm工藝,Intel表示他們在美國本土俄勒岡州及以色列的晶圓廠已經開始量產10nm工藝,亞利桑那州的晶圓廠很快也會跟進

面向移動市場的IceLake-U處理器6月份開始出貨,今年已經有50多個客戶產品,其中30多個已經開始出貨。

除了10nm筆記本處理器之外,10nm工藝還會有FPGA產品AGILEX,今年Q3季度已經開始出貨。

再往后就是明年的AI加速芯片Spring Hill、5G基站芯片Snow Ridge及服務器芯片IceLake-SP,它們會在明年陸續出貨

值得注意的是,Intel還首次提到了10nm工藝的獨顯,首發的是GPU DG1,也就是Gen12 LP架構的,后者也會用于10nm Tiger Lake處理器,傳聞性能是GTX 1050級別的。

雖然10nm工藝延遲多年,但是今年開始步入正軌,司睿博也表示Intel“10nm工藝時代正式開始了。”

在10nm之后,Intel會在2021年推出7nm工藝,這是Intel首個應用EUV光刻技術的工藝,首發產品是數據中心GPU,不過目前沒有具體詳情,Intel只是重申了進度。

7nm工藝對Intel也非常重要,因為這代工藝吸取了10nm工藝指標定的太高的教訓,從這一代開始Intel將恢復正常的工藝升級間隔,大約是2-2.5年升級一代,跟以往的Tick-Tock戰略差不多,要知道14到10nm期間Intel的工藝拖延了4年,拖累了整體表現。

在7nm之后,Intel將會進入5nm節點,司睿博表示Intel的5nm工藝進度良好,但同樣沒有提及具體信息,這是Intel首次在官方場合提及5nm工藝。

結合2-2.5年升級的周期,Intel的5nm應該是在2023年問世,如果不延期的話。

總之,在半導體制程工藝上,Intel的態度就是“我們將繼續保持制程優勢。”

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關鍵詞 :
Intel 5nm芯片
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